簡(jiǎn)要描述:美國(guó)MAS納米粒度及Zeta電位分析儀,可以測(cè)試:粒徑、Zeta電位、滴定、電導(dǎo)等。此儀器容易使用、測(cè)量精確。對(duì)于高達(dá)60%(體積)濃度的樣品,也無(wú)需進(jìn)行稀釋或樣品前處理,即可直接測(cè)量甚至對(duì)于漿糊凝膠、水泥以及用其它儀器很難測(cè)量的材料都可直接進(jìn)行測(cè)量。
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美國(guó)MAS納米粒度及Zeta電位分析儀
典型應(yīng)用:
綜合穩(wěn)定水泥漿,陶瓷,化學(xué)機(jī)械研磨,煤漿,涂料,化妝品,環(huán)境保護(hù)禪選法礦物富集,食品工業(yè),乳膠,微乳,混合分散體系,納米粉,無(wú)水體系,油漆成像材料。
主要特點(diǎn):
1)能分析多種分散物的混合體;
2)無(wú)需依賴(lài)Double Layer模式,精確地判定等電點(diǎn);
3)可適用于高導(dǎo)電(highly conducting)體系;
4)可排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾;
5)可精確測(cè)量無(wú)水體系;
6)Zeta電位測(cè)試采用多頻電聲測(cè)量技術(shù),無(wú)需先測(cè)量粒度即可進(jìn)行電位測(cè)量;
7)樣品的高濃度可達(dá)60%(體積比),被測(cè)樣品無(wú)需稀釋?zhuān)瑢?duì)濃縮膠體和乳膠可進(jìn)行直接測(cè)量;
8)具有自動(dòng)電位滴定功能;
優(yōu)于光學(xué)方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1)被測(cè)樣品無(wú)需稀釋?zhuān)?/span>
2)排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾;
3)不需定標(biāo);
4)能分析多種分散物的混合體;
5)高精度;
6)所檢側(cè)粒徑范圍款從5 nm至1000um
美國(guó)MAS納米粒度及Zeta電位分析儀
優(yōu)于electroactics方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1)無(wú)需定標(biāo);
2)能測(cè)更寬的粒徑范圍;
3)無(wú)需依賴(lài)Double Layer模式
4)無(wú)需依賴(lài)( electric surface properties)電表面特牲;
5)零表面電荷條件下也可測(cè)量粒徑;
6)可適用于無(wú)水體系;
7)可適用于高導(dǎo)電(highly conducting)體系;
優(yōu)于微電泳方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1)無(wú)需稀釋?zhuān)毯狭扛哌_(dá)60%;
2)可排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾;
3)高精度(±0.1mv);
4)低表面電荷(可低至0. 1mv);
5)electrosmotic flow不影響測(cè)量;
6)對(duì)流(convection)不影響測(cè)量;
7)可精確測(cè)量無(wú)水體系;
技術(shù)參數(shù):
1)所檢測(cè)粒徑范圍寬:從5 nm至1000um;
2)可測(cè)量參數(shù):粒度分布、固含量、Zeta電位、等電點(diǎn)IEP、E5A、電導(dǎo)率、PH、溫度、聲衰減;
3)Zeta電位測(cè)量范圍:+/-200 mv,低表面電荷(可低至0. 1mv),高精度(±0.1mv);
4)零表面電荷條件下也可測(cè)量粒徑;
5)允許樣品濃度:0.1-60%(體積百分?jǐn)?shù));
6)樣品體積:30-230ml;
7)PH范圍:0~14;
8)電導(dǎo)率范圍:0~10 s/m
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